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산업용 클린룸(Industrial Clean Room)

최근 정밀 반도체산업, 기계공업 및 항공산업 등 첨단산업의 발달로 인하여 작업공정에 따라 정밀화, 고품질화 및 높은 신뢰성이 충족되는 환경이 요구되고 있습니다. 전자공장, FILM공장 또는 정밀 기계공장 등에서는 실내 부유미립자가 제조 중인 제품에 부착되면 제품의 불량을 초래하고, 사용목적에 적합한 제품의 생산에 저해요소가 되어 제품의 신뢰성과 생산원가에 막대한 영향을 미치므로 공장 전체 또는 중요한 작업이 이루어지는 부분에 대해서는 필요에 대응하는 청정한 환경이 유지되도록 하여야 합니다. 이러한 목적을 이루기 위하여 필터에 의한 여과, 온도, 습도, 공기압, 소음, 정전기, 조도 등을 제어하여 작업 공정에 맞는 환경을 조성합니다. 이러한 목적의 청정공간을 ICR(Industrial Clean Room)이라하며 작업공정에 따라 각기 다른 청정상태가 요구되고 있습니다.

산업용 크린룸(INDUSTRIAL CLEAN ROOM)의 청정도

크린룸의 청정도 단위는 클래스(Class) 단위를 사용. 클래스(Class) 뒤에는 숫자가 표기되는데 이 숫자는 가로와 세로, 높이가 각각 1피트인 정육면체 공간에 포함하고 있는 0.5㎛ 크기의 먼지 숫자를 의미함. 예로 들어 대규모집적(LSI) 반도체의 경우 웨이퍼 공정(전공정)에는 Class 1~Class 100의 높은 청정도를 요구하지만 LSI의 조립과 검사공정 등 후공정은 Class 100~Class 10만까지도 가능.

적용분야

적용분야 Clean Room의 필요성
반도체공장 표면처리, 시험, 연마원료 및 제품보관
레이저공업/광학기계공업 렌즈연마, 의료용 카메라 가공, 필름제조, 마이크로 필름현상
정밀기계 전자시계, 부품조립, 극소형 베어링
우주항공산업 로켓 부품 가공, 조립, 인공위성 제어장치
컴퓨터 자기드럼, 자기테이프, 컴퓨터 가공, 조립, 검사
전자기계 브라운관, 프린트판, 소형릴레이, 정밀전기계기, 액정판
원자력발전소 방사능 분진 제거